美國彭博社周五(1月26日)最新報道稱，去年美國和荷蘭兩國政府之間達成一項秘密協議限制阿斯麥(ASML Holding NV)向中國出貨後，根據數據顯示，這並未阻止其敏感晶片製造設備的銷售激增。
彭博社稱，這項秘密協議此前從未被媒體報道過。
報道指出，由於阿斯麥轉向北京彌補其他地區需求的疲軟，該協議陷入僵局。荷蘭政府批准更多的出口，讓中國得以在美國斡旋的新出口限制於本月生效之前囤半導體設備。
據不願透露姓名的知情人士透露，該協議最初是作為這些限制生效前的權宜之計，旨在優先向中國以外的市場出口該公司的浸沒式深紫外光刻機(Deep Ultraviolet lithography, DUV)。
但知情人士表示，全球經濟低迷促使阿斯麥成功遊說海牙，獲得向中國出口關鍵半導體製造設備許可，打破美國官員有關該交易將限制交貨的預期。
中國去年成為阿斯麥最大的市場，因為中國企業在即將實施的出口禁令之前爭相購買設備。
荷蘭光刻機巨頭阿斯麥是製造最複雜半導體所需機器的唯一生產商，其設備生產的晶片具有軍事用途。
美國削弱中國半導體雄心的努力，越來越多地把這家荷蘭公司列為目標，引起阿斯麥即將離任的行政總裁溫寧克(Peter Wennink)和一些當地議員的憤怒。
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上述知情人士說，阿斯麥並沒有違反協議。半導體行業的長期低迷限制其他地區對阿斯麥機器的需求。
荷蘭對外貿易部在給彭博社的一份聲明中表示：「荷蘭正在與我們的合作夥伴就出口管制進行持續對話。」該機構拒絕就具體案件或其所考慮的國家安全因素置評。
美國國家安全委員會(National Security Council)發言人拒絕置評。
去年12月，從荷蘭進口的光刻設備比去年同期增長近1000%，達到11億美元，因為多家公司趕在本月荷蘭的限制措施開始之前搶購。
阿斯麥表示，它運往中國的大多數設備都不是最先進的。
溫寧克周三在接受彭博社採訪時說：「我們在中國90%的業務都與成熟的技術有關。」
不過，阿斯麥生產的第二先進的機器——浸沒式深紫外線機器——幫助推動中國晶片製造的突破。與規格較高的型號不同，這種機器直到今年才受到出口禁令的限制。根據彭博去年10月報道，中國中芯國際使用該公司的設備替華為的智能型手機生產7納米晶片。
這款晶片顯示出的製造能力遠遠超出美國試圖阻止的水平，並引發華盛頓方面的擔憂，即現在阻止中國半導體的進步為時已晚。
在秘密協議未能遏制阿斯麥的交付後，美國採取了進一步措施來限制這種貿易。
去年10月，美國官員對外國公司出口DUV機器單方面推出新的限制。彭博社本月早些時候報道稱，去年年底，美國官員要求阿斯麥立即停止向中國客戶發運部分設備。
彭博社稱，華盛頓咄咄逼人的姿態在荷蘭引起不同的反應。一些官員指責美國欺凌該國最大的公司。然而，荷蘭司法部長Dilan Yesilgoz-Zegerius在去年11月表示，政府應該更快地採取行動限制出口。
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另一方面，隨着阿斯麥在中國的銷量增加，一些競爭對手的中國銷量份額有所下降。
美國最大的晶片設備製造商應用材料公司(Applied Materials Inc.)對中國的銷售額連續第二年下降，2023會計年度對中國的營收縮減至27%。此外，去年科林研發(Lam Research Corp.)僅剩約四分之一的收入來自中國，低於先前超過35%的峰值。
日本東京威力科創公司(Tokyo Electron Ltd.)上一財年來自中國的營收佔比也下滑。與荷蘭一樣，日本也受到華盛頓的壓力，對中國半導體企業設置壁壘。
